Evolución histórica de la empresa e hitos en el desarrollo de productos

La empresa tiene su origen en una empresa de grabado químico de metales fundada en 1889 por Wilhelm Heidenhain en Berlín, que producía plantillas, letreros, graduaciones y escalas. Después de la destrucción de la empresa durante la segunda guerra mundial, el hijo del fundador estableció en Traunreut la firma DR. JOHANNES HEIDENHAIN. Los primeros productos fueron de nuevo graduaciones, así como escalas para balanzas con indicación del precio. Muy pronto se incorporaron al programa de fabricación sistemas ópticos de medición de posición para máquinas herramienta. Al comienzo de los años sesenta tuvo lugar la transición a los sistemas lineales y angulares de medida con captación fotoeléctrica. Estos desarrollos hicieron posible la automatización de muchas máquinas e instalaciones de la industria de fabricación.

Desde mediados de los años setenta, HEIDENHAIN ha ido convirtiéndose en un fabricante de tecnología de control y accionamientos para máquinas-herramienta cada vez más importante.

Desde sus inicios, la empresa ha tenido una fuerte orientación técnica. Para asegurarlo, así como la estabilidad e independencia de la empresa como base para su continuo desarrollo, el Dr. Johannes Heidenhain convirtió en 1970 su participación en la empresa en una fundación de utilidad para la comunidad. Ello permite hoy en día a HEIDENHAIN llevar a cabo elevadas inversiones en investigación y desarrollo.

Hitos históricos

1889

Fundación de la empresa de grabado químico de metales W. HEIDENHAIN en Berlín

1923

El Dr. Johannes Heidenhain entra a trabajar en la empresa paterna

1948

Nuevo inicio de la empresa DR. JOHANNES HEIDENHAIN en Traunreut

1950

Invención del procedimiento DIADUR: fabricación de graduaciones resistentes de precisión sobre vidrio copiando la graduación original.

1970

Creación de la fundación de utilidad pública DR. JOHANNES HEIDENHAIN-STIFTUNG GmbH

1980

Fallecimiento del Dr. Johannes Heidenhain

2014

A escala mundial, HEIDENHAIN está presente en todos los países industrializados

Proyectos de técnica de medición

1961Microscopio de medición fotoeléctrico
1966Comparador interferencial para el Instituto Físico-Técnico Federal (PTB)
1971Mesa de medición angular y verificador de discos graduados para el PTB
1977Goniómetro de precisión para el PTB
1989Sistemas angulares de medida para el New Technology Telescope NTT
1999Sistemas angulares de medida para el Very Large Telescope VLT
1999Escalas para la comparación internacional de medición lineal NANO-3
entre un gran número de institutos nacionales de metrología.
2001Comparador interferencial nanométrico para el PTB
2003Comparación de medición angular entre HEIDENHAIN, el PTB y AIST (instituto estatal de investigación japonés)
2004Comparación de medición lineal entre HEIDENHAIN, el PTB y MITUTOYO
2004Sistemas angulares de medida para el telescopio GRANTECAN (Gran Telescopio CANARIAS)
2005Comparación de medición angular entre HEIDENHAIN y PTB
2007Sistemas angulares de medida para las 25 antenas europeas ALMA (Atacama Large Telescope Array)
2013

Sistemas angulares de medida para el telescopio Daniel K. Inouye Solar (DKIST, antes Advanced Technology Solar Telescope, ATST)

Hitos en graduaciones

1936

Regla de vidrio copiada fotomecánicamente con precisión de ± 0,015 mm

1943

Disco graduado copiado con precisión de ± 3 segundos

1952

Las escalas para balanzas representan la facturación principal

1967

Retículas autoportantes, microestructuras

1985

Marcas de referencia codificadas para reglas incrementales

1986

Reglas de retícula de fases

1995

Retícula en cruz plana para 2 sistemas de medida de coordenadas

2002

Estructuras para retículas de fases planas para sistemas lineales de medida interferenciales

2005

Retículas de amplitud insensibles a la contaminación, fabricadas mediante ablación láser

2009

Retícula en cruz de gran superficie (400 mm x 400 mm) para sistemas de medida en la industria de semiconductores

Hitos en sistemas de medida: sistemas lineales de medida abiertos

1952

Sistemas lineales de medida ópticos para máquinas herramienta.

1961

Sistema lineal de medida incremental LID 1, periodo de división 8 µm / resolución 2 µm

1963

Sistema lineal de medida codificado LIC con 18 pistas, código binario puro / resolución 5 µm

1965

Interferómetro láser para la medición de máquinas-herramienta

1987

Sistema lineal de medida interferencial abierto LIP 101, resolución 0,02 µm

1989

Sistema lineal de medida interferencial abierto LIP 301, resolución 1 nm

1992

Sistema lineal de medida interferencial bidimensional PP 109R

2008

Sistema lineal de medida interferencial LIP 200 con periodo de señal 0,512 µm, para velocidades de desplazamiento de hasta 3 m/s

2010

Sistema lineal de medida absoluto abierto LIC 4000 con 2 pistas,
PRC, EnDat 2.2 para longitudes de medida de hasta 27 m y resolución de 1 nm

2012

Sistema lineal de medida absoluto de una pista LIC 2100

2015Sistema lineal de medida interferencial LIP 6000 con diseño muy compacto

Hitos en sistemas de medida: sistemas lineales de medida encapsulados

1952

Sistemas lineales de medida ópticos para máquinas herramienta.

1966

Sistema lineal de medida incremental encapsulado LIDA 55.6 con regla de acero

1975

Sistema lineal de medida incremental LS 500 con regla de vidrio, longitud de medida hasta 3 m, resolución 10 µm

1977

Sistema lineal de medida incremental LIDA 300, medición hasta 30 m

1994

Sistema lineal de medida absoluto encapsulado LC 181 con 7 pistas, interfaz EnDat, longitud de medida hasta 3 m, resolución 0,1 µm

1996

Sistema lineal de medida absoluto LC 481 con 2 pistas, PRC, EnDat, longitud de medida hasta 2 m

2011

Sistema lineal de medida absoluto LC 200, longitud de medida hasta 28 m, PRC, resolución 10 nm

2014

Sistema lineal de medida absoluto LC xx5, longitud de medida hasta 4 m, resolución 1 nm

2015Sistema lineal de medida incremental LP 100, longitud de medida hasta 3 m, resolución 31,25 pm

Hitos en sistemas de medida: sistemas angulares de medida

1952

Sistemas angulares de medida ópticos

1957/1961

Sistema angular de medida fotoeléctrico ROD 1 con 40.000 periodos de señal/vuelta, 10.000 impulsos

1962

ROD 1 con 72.000 periodos de señal/vuelta

1964

Sistema angular de medida absoluto ROC 15 / resolución 17 bit

1975

Sistema angular de medida incremental ROD 800, precisión ± 1 segundo

1986

Sistema angular de medida incremental RON 905, precisión ± 0,2 segundos

1997

Sistema angular de medida absoluto con acoplamiento estator integrado en versión de eje hueco RCN 723, 23 bit monovuelta, interfaz EnDat, precisión ± 2 segundos

2000

Sistema angular de medida interferencial ERP 880 con 180.000 periodos de señal/vuelta, precisión ± 0,2 segundos

2004

Sistema angular de medida absoluto RCN 727 con diámetro de eje hueco de hasta 100 mm

2009

Sistema angular de medida interferencial ROP 8080, para probadores de wafers, combinación rodamiento de carga y sistema angular de medida, 360.000 periodos de señal/vuelta

2011

Sistema angular de medida interferencial en miniatura ERP 1080 en versión Single-Chip-Encoder

Hitos en sistemas de medida: generadores rotativos de impulsos

1957/1961

Generador rotativo de impulsos incremental fotoeléctrico ROD 1 con 10.000 impulsos

1964Generador rotativo de impulsos incremental estándar de las series ROD 2 / ROD 4

1981

Generador rotativo de impulsos incremental ROD 426, el estándar de la industria

1987

Generador rotativo de impulsos absoluto multivuelta ROC 221 S, 12 bit monovuelta, 9 bit multivuelta

1992

Generadores rotativos de impulsos incrementales modulares ERN 1300 para temperaturas de trabajo de hasta 120°C

1993

Generadores rotativos de impulsos absolutos monovuelta y multivuelta ECN 1300 y EQN 1300

2000

Generador rotativo de impulsos absoluto multivuelta en miniatura EQN 1100 en técnica Chip-On-Board

2000

Generador rotativo de impulsos absoluto monovuelta ECN 100 con diámetro de eje hueco de hasta 50 mm

2004

Generadores rotativos de impulsos absolutos monovuelta y multivuelta en miniatura ECI 1100 y EQI 1100 (con palpación inductiva)

2007

Generadores rotativos de impulsos absolutos con "Functional Safety" SIL2/PL d e interfaz EnDat 2.2

2012ERN 1387 Palpación incremental con precisión mejorada gracias al nuevo desarrollo Palpación-ASIC
2014Generadores rotativos de impulsos absolutos para aplicaciones hasta SIL3/PL e, interfaz EnDat 2.2 y eliminación de errores